旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)電極Rotating Disk Eleetrode,簡(jiǎn)稱(chēng)RDE,RDE只有一個(gè)圓盤(pán),它是一種流體動(dòng)力學(xué)技術(shù)。需要配合旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)圓環(huán)/電極/裝置（MSR/ASR）使用。 圓盤(pán)電極只有一盤(pán),環(huán)盤(pán)電極則在圓盤(pán)外圍設(shè)置一個(gè)圓環(huán)，盤(pán)與環(huán)之間只有很小的間隙，圓盤(pán)或環(huán)盤(pán)圍繞中心軸旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速由一個(gè)旋轉(zhuǎn)系統(tǒng)調(diào)節(jié)和測(cè)量。在電化學(xué)技術(shù)中,用來(lái)測(cè)電極和電解質(zhì)溶液相對(duì)運(yùn)動(dòng)，稱(chēng)流體動(dòng)力學(xué)技術(shù)。 

    旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)電極通常使用金、鉑金和玻碳作為材料，也有特別研究會(huì)使用到石墨等特種材料，或要求使用高溫的旋轉(zhuǎn)圓盤(pán)電極。廣泛用于化學(xué)電源、電鍍、金屬腐蝕等應(yīng)用領(lǐng)域和電化學(xué)技術(shù)研究上。利用旋轉(zhuǎn)圓環(huán)圓盤(pán)電極可以檢測(cè)出電極反應(yīng)產(chǎn)物特別是中間產(chǎn)物的存在形式與生成量，或圓環(huán)電極上捕集到的盤(pán)電極反應(yīng)產(chǎn)物的穩(wěn)定性等，利用這些測(cè)量可以探測(cè)一些復(fù)雜電極反應(yīng)的機(jī)理和獲取更多的電極過(guò)程信息。因此在現(xiàn)代電化學(xué)測(cè)量中是常用的測(cè)試手段。電鍍添加劑的作用機(jī)理的探討或添加劑性能的比較，都可以用到這種電極來(lái)進(jìn)行測(cè)試。 

   在測(cè)量時(shí)電極浸入測(cè)量溶液不宜太深，一般以2～3mm為宜。電極的轉(zhuǎn)速要適當(dāng)，太慢時(shí)自然對(duì)流起主要作用，太快時(shí)則會(huì)出現(xiàn)湍流，不能得到有效參數(shù)。要求在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中保證電極表面出現(xiàn)層流狀態(tài)。的極限擴(kuò)散電流密度公式，由V.G.Levich(前蘇聯(lián))于1942年提出，Levich方程如下，極限擴(kuò)散電流iL是研究電化學(xué)動(dòng)力學(xué)的重要參數(shù)。如果在不同轉(zhuǎn)速條件下測(cè)得iL值，作iL-ω1/2圖，可求出D；用標(biāo)準(zhǔn)溶液標(biāo)定后可測(cè)反應(yīng)物種的濃度，常用于定量分析。